常見問題
首頁 - 常見問題拋光軌跡對(duì)拋光性能的影響
點(diǎn)擊： 發(fā)布者：天創(chuàng) 時(shí)間：2019-11-30 15:03:49
拋光精度，即拋光性能，是平面拋光機(jī)采購商及供貨商共同關(guān)注的焦點(diǎn)。拋光軌跡是影響拋光性能根本的影響因素。
平面拋光機(jī)的拋光軌跡根據(jù)加工工件及加工盤的不同相對(duì)運(yùn)動(dòng)，有定偏心研磨軌跡、不定偏心研磨軌跡、直線式研磨軌跡、搖擺式研磨軌跡、方形分形研磨軌跡，行星式研磨軌跡等等。
定偏心研磨軌跡的工件材料去除均勻性較差，越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直徑不大于200mm的小尺寸工件。其中高精密研磨拋光機(jī)就是這種。
不定偏心式研磨軌跡，其均勻性明顯好于定偏心式軌跡，有利于工件面形精度的提高。適合于直徑大于200mm的大尺寸工件的加工。量產(chǎn)型鏡面拋光機(jī)的研磨拋光軌跡就是這種類型。
直線式研磨使用的不是拋光盤，而是具有柔性的砂帶，工件做單純的回轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。平面研磨拋光機(jī)自修整機(jī)構(gòu)的刀具在研磨盤上的軌跡也就是這種。此種運(yùn)動(dòng)形式簡(jiǎn)單，如將研磨帶加長(zhǎng)可以形成批量生產(chǎn)，生產(chǎn)效率高。
搖擺式研磨軌跡比定偏心雙軸式或直線式研磨更均勻。軌跡在加工面中心呈幾種的趨勢(shì)，是工件加工面中心處有凹陷的現(xiàn)象。
行星式平面研磨運(yùn)動(dòng)軌跡最常見用于雙面研磨機(jī)，當(dāng)改變研磨盤轉(zhuǎn)速和太陽轉(zhuǎn)速之比時(shí)，工作效率及材料去除率會(huì)發(fā)生變化。
平面拋光機(jī)的拋光軌跡根據(jù)加工工件及加工盤的不同相對(duì)運(yùn)動(dòng)，有定偏心研磨軌跡、不定偏心研磨軌跡、直線式研磨軌跡、搖擺式研磨軌跡、方形分形研磨軌跡，行星式研磨軌跡等等。
定偏心研磨軌跡的工件材料去除均勻性較差，越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直徑不大于200mm的小尺寸工件。其中高精密研磨拋光機(jī)就是這種。
不定偏心式研磨軌跡，其均勻性明顯好于定偏心式軌跡，有利于工件面形精度的提高。適合于直徑大于200mm的大尺寸工件的加工。量產(chǎn)型鏡面拋光機(jī)的研磨拋光軌跡就是這種類型。
直線式研磨使用的不是拋光盤，而是具有柔性的砂帶，工件做單純的回轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。平面研磨拋光機(jī)自修整機(jī)構(gòu)的刀具在研磨盤上的軌跡也就是這種。此種運(yùn)動(dòng)形式簡(jiǎn)單，如將研磨帶加長(zhǎng)可以形成批量生產(chǎn)，生產(chǎn)效率高。
搖擺式研磨軌跡比定偏心雙軸式或直線式研磨更均勻。軌跡在加工面中心呈幾種的趨勢(shì)，是工件加工面中心處有凹陷的現(xiàn)象。
行星式平面研磨運(yùn)動(dòng)軌跡最常見用于雙面研磨機(jī)，當(dāng)改變研磨盤轉(zhuǎn)速和太陽轉(zhuǎn)速之比時(shí)，工作效率及材料去除率會(huì)發(fā)生變化。
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